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            AG防眩層膜厚儀

            更新時(shí)間:2023-07-17

            簡(jiǎn)要描述:

            AG防眩層膜厚儀: 按照客戶(hù)需求搭建的防眩薄膜厚度特性表征工具。
            AG防眩層膜厚儀 是一個(gè)模塊化和可擴展平臺的光學(xué)測量設備,可用于表征厚度范圍為1nm-1mm 的防眩膜層。
            AG防眩層膜厚儀 是為客戶(hù)量身定制的,并廣泛應用于各種不同的應用。
            比如:
            吸收率/透射率/反射率測量,薄膜特性在溫度和環(huán)境控制下甚至在液體環(huán)境下的表征等等…

            訪(fǎng)問(wèn)次數:2535廠(chǎng)商性質(zhì):代理商

            1. 產(chǎn)品概述

            AG防眩層膜厚儀: 按照客戶(hù)需求搭建的防眩薄膜厚度特性表征工具。

            AG防眩層膜厚儀 是一個(gè)模塊化和可擴展平臺的光學(xué)測量設備,可用于表征厚度范圍為1nm-1mm 的防眩膜層。

            AG防眩層膜厚儀 是為客戶(hù)量身定制的,并廣泛應用于各種不同的應用。

            比如:

            吸收率/透射率/反射率測量,薄膜特性在溫度和環(huán)境控制下甚至在液體環(huán)境下的表征等等

            2. AG防眩層膜厚儀應用

            大學(xué)&研究實(shí)驗室、半導體行業(yè)、高分子聚合物&阻抗表征、電介質(zhì)特性表征、

            生物醫學(xué)、硬涂層,陽(yáng)極氧化,金屬零件加工、、光學(xué)鍍膜、非金屬薄膜等等…

            AG防眩層膜厚儀可由用戶(hù)按需選擇裝配模塊,核心部件包括光源,光譜儀(適用于 200nm-2500nm 內的任何光譜系統)和控制單元,電子通訊模塊。

            通過(guò)不同模塊組合,蕞終的配置可以滿(mǎn)足任何終端用戶(hù)的需求。

            3. 膜厚儀規格(Specificatins


            Model

            UV/Vis

            UV/NIR -EXT

            UV/NIR-HR

            D UV/NIR

            VIS/NIR

            D Vis/NIR

            NIR

            光譜范圍  (nm)

            200 – 850

            200 –1020

            200-1100

            200 – 1700

            370 –1020

            370 – 1700

            900 – 1700

            像素

            3648

            3648

            3648

            3648 & 512

            3648

            3648 & 512

            512

            厚度范圍

            1nm – 80um

            3nm – 80um

            1nm – 120um

            1nm – 250um

            12nm – 100um

            12nm – 250um

            50nm – 250um

            測量n*k 蕞小范圍

            50nm

            50nm

            50nm

            50nm

            100nm

            100nm

            500nm

            準確度*,**

            1nm or 0.2%

            1nm or 0.2%

            1nm or 0.2%

            1nm or 0.2%

            1nm or 0.2%

            2nm or 0.2%

            3nm or 0.4%

            精度*,**

            0.02nm

            0.02nm

            0.02nm

            0.02nm

            0.02nm

            0.02nm

            0.1nm

            穩定性*,**

            0.05nm

            0.05nm

            0.05nm

            0.05nm

            0.05nm

            0.05nm

            0.15nm

            光源

            氘燈 & 鎢鹵素燈(內置)

            鎢鹵素燈(內置)

            光斑 (直徑)



            350um (更小光斑可根據要求選配)



            材料數據庫




            > 600 種不同材料




            4. 膜厚儀配件


            電腦

            13~19 英寸屏幕的筆記本電腦/觸摸屏電腦

            聚焦模塊

            光學(xué)聚焦模塊安裝在反射探頭上,光斑尺寸<100um

            薄膜/比色皿容器

            在標準器皿中對薄膜或液體的透射率測量(選配)

            接觸式探頭

            用于涂層厚度測量和光學(xué)測量的配件,適用于彎曲表面和曲面樣品(選配)

            顯微鏡

            用于高橫向分辨率的反射率及厚度顯微測量(選配)

            Scanner  (motorized)

            帶有圓晶卡盤(pán)的PolarR-Θ)或 CartesianX-Y)自動(dòng)化樣品臺可選,PolarR-Θ)樣品臺支持反射率測量,CartesianX-Y)樣品臺支持反射率和透射率測量(選配)

            積分球

            用于表征涂層和表面的鏡面反射和漫反射(選配)

            手動(dòng) X-Y 樣品臺

            測量面積為 100mmx100mm 200mmx200mm x - y 手動(dòng)平臺(選配)

            加熱模塊

            嵌入FR-tool 中,范圍由室溫~200oC,通過(guò)FR-Monitor 運行可編程溫控器(0.1 oC 精度).(選配)

            液體模塊

            聚四氟乙烯容器,用于通過(guò)石英光學(xué)窗口測量在液體中的樣品。樣品夾具,用于將樣品插入可處理 30mmx30mm 樣品的液體中(選配)

            流通池

            液體中吸光率、微量熒光測量(選配)

            5. 膜厚儀工作原理

            白光反射光譜(WLRS)是測量垂直于樣品表面的某一波段的入射光,在經(jīng)多層或單層薄膜反射后,經(jīng)界面干涉產(chǎn)生的反射光譜可確定單層或多層薄膜(透明,半透明或全反射襯底)的厚度及 N*K 光學(xué)常數。

            * 規格如有更改,恕不另行通知; ** 厚度測量范圍即代裱光譜范圍,是基于在高反射襯底折射率為 1.5 的單層膜測量厚度。



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